Che cos'è l'HDI?
L'HDI, che si riferisce a una maggiore densità di cablaggio per unità di superficie rispetto ai circuiti stampati convenzionali, è un sistema avanzato di circuito stampato (PCB) che raggiunge livelli più elevati di integrazione dei componenti elettronici attraverso cablaggi microfini, strutture di passaggio microscopiche e cablaggi densi. Queste schede utilizzano fili e spazi vuoti più sottili (≤ 100 µm/0,10 mm), vias (<150 µm) e pad più piccoli (20 pad/cm2) rispetto alla tecnologia PCB tradizionale.
Caratteristiche principali
- Larghezza e spaziatura delle linee più sottili: tipicamente ≤100 µm (0,10 mm), molto inferiore a quello dei PCB convenzionali (tipicamente 150 µm+).
- Piccoli fori passanti:
- Vias incorporati con il laser: <150 µm di diametro, forati al laser per connessioni ad alta densità tra gli strati.
- Fori impilati/sfalsati: Migliorare l'utilizzo dello spazio verticale e ridurre i requisiti di stratificazione.
- Alta densità di pastiglie: >20 pads/cm² per supportare chip multi-pin (ad es. pacchetti BGA, CSP).
- Materiali sottili: Utilizzo di substrati a bassa costante dielettrica ed elevata stabilità (ad es. FR4, poliimmide).
Caratteristiche principali delle schede HDI (rispetto ai PCB tradizionali)
1. Progettazione di microvia (perforazione laser dominata)
- Scelta della tecnologia: Le schede HDI utilizzano comunemente foratura laser (diametri dei fori tipicamente ≤150µm) piuttosto che la perforazione meccanica. I motivi sono:
- Limiti di foratura meccanica: Gli aghi di perforazione da 0,15 mm si rompono facilmente, hanno requisiti elevati di RPM e bassa efficienza, e non sono in grado di realizzare il controllo della profondità di buchi ciechi sepolti.
- Vantaggio laser: Può elaborare fori minuscoli (ad esempio, 50µm), supporta HDI a qualsiasi livello, senza contatto fisico e ad alto rendimento.
2. Microvia e anelli di perforazione Diametro della via ≤150µm
- Vias ≤150µm e vias (pad) ≤250µm, liberando spazio nel layout grazie al restringimento dei vias.
- esempio: Se il diametro dell'apertura viene ridotto da 0,30 mm a 0,10 mm (vias laser), il diametro del pad può essere ridotto da 0,60 mm a 0,35 mm, risparmio dell'area 67%.
- Punzonatura diretta del pad (Via-in-Pad): ottimizza ulteriormente la disposizione dei componenti BGA/SMD e aumenta la densità.
3. Alta densità di giunti a saldare (>130 giunti/in²)
- La densità delle piazzole di saldatura determina l'integrazione dei componenti. HDI realizza modulo multifunzionale assemblaggio ad alta densità (ad esempio, schede madri di telefoni cellulari) attraverso fori/fili micro-miniaturizzati.
4. Alta densità di cablaggio (>117 fili/in²)
- Per adeguarsi all'aumento dei componenti, è necessario aumentare contemporaneamente la densità delle linee. HDI realizza un cablaggio complesso attraverso cablaggio fine (larghezza/spazio della linea ≤100µm) e impilamento multistrato.
5. Linea fine (larghezza della linea/spazio ≤ 3 mil/75µm)
- Standard teorico75µm/75µm, ma nella pratica si usa comunemente 100µm/100µm. Motivo:
- Costo del processoIl processo a 75 µm è impegnativo in termini di attrezzature/materiali, bassa resa, pochi fornitori e costi elevati.
- Equilibrio prezzo/prestazioni: La soluzione da 100 µm rappresenta un equilibrio tra densità e costo ed è adatta alla maggior parte delle esigenze dell'elettronica di consumo.
I principali vantaggi di HDI
Dimensione | Scheda HDI | PCB tradizionale |
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Tecnologia di perforazione | Foratura laser (fori ciechi, strati arbitrari) | Foratura meccanica (basata su fori passanti) |
Diametro del foro/anello del foro | ≤150µm/≤250µm | ≥200µm/≥400µm |
Densità cablaggio | >117 fili/in² | <50 fili/in² |
Larghezza/passo del filo | ≤100µm (Mainstream) | ≥150µm |
HDI promuove la miniaturizzazione e le alte prestazioni dei prodotti elettronici attraverso microvia, linea sottile e interconnessioni ad alta densitàed è una tecnologia chiave per il 5G, l'AI e i dispositivi portatili.
Scheda tecnica del PCB HDI
Caratteristica | Specifiche tecniche del PCB HDI |
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Strati | Standard: 4-22 strati Avanzato: Fino a 30 strati |
Punti salienti | - Maggiore densità dei pad - Traccia/spazio più fine (≤75µm) - Microvie (interconnessione cieca/interrata, a qualsiasi strato) - Design Via-in-Pad |
Costruzione di HDI | 1+N+1, 2+N+2, 3+N+3, 4+N+4, Qualsiasi strato (ELIC), Ultra HDI (R&S) |
I materiali | FR4 (standard/ad alte prestazioni), FR4 senza alogeni, Rogers (per applicazioni ad alta frequenza) |
Peso del rame (finito) | 18μm - 70μm |
Min. Traccia/Spazio | 0,075 mm / 0,075 mm (75µm/75µm) |
Spessore del PCB | 0,40 mm - 3,20 mm |
Max. Dimensioni della scheda | 610 mm × 450 mm (limitato dalla capacità di foratura laser) |
Finitura superficiale | OSP, ENIG, Stagno a immersione, Argento a immersione, Oro elettrolitico, Dita d'oro |
Min. Dimensione del foro | Perforazione meccanica: 0,15 mm Foratura laser: - Standard: 0,10 mm (100µm) - Avanzato: 0,075 mm (75µm) |
Applicazioni e vantaggi principali delle schede HDI
I. Aree di applicazione principali delle schede HDI
Con l'avanzamento della tecnologia dei semiconduttori verso la miniaturizzazione e le alte prestazioni, la tecnologia HDI è diventata un fattore critico per l'elettronica moderna, dominando in particolare i seguenti campi:
- Smartphone (4G/5G): L'instradamento ad alta densità supporta moduli multi-telecamera, antenne 5G e processori ad alta velocità (ad esempio, chip confezionati in BGA).
- Apparecchiature della stazione base: La trasmissione di segnali ad alta frequenza (ad esempio, le bande a onde millimetriche) si basa sui materiali HDI a bassa perdita (ad esempio, Rogers).
- Dispositivi portatili: I progetti ultrasottili (ad esempio, schede madri di smartphone pieghevoli, auricolari TWS) richiedono l'impilamento a strato sottile di HDI (struttura 1+N+1).
- Fotocamere digitali/AR/VR: I sensori ad alta risoluzione e i moduli miniaturizzati dipendono dalle microvie (<75µm) e dalla tecnologia Via-in-Pad.
- Elettronica automobilistica
- Sistemi avanzati di assistenza alla guida (ADAS): I sistemi radar e di infotainment richiedono l'elevata affidabilità dell'HDI (resistenza al calore e alle vibrazioni).
- Calcolo ad alte prestazioni
- Server/GPU AI: L'elevata conduttività e il design termico supportano la trasmissione di correnti elevate (spessore del rame ≥70µm).
II. I "quattro alti e un basso" vantaggi della tecnologia HDI
Vantaggio | Implementazione tecnica | Valore di applicazione |
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Instradamento ad alta densità | Traccia/spazio ≤75µm, microvias (perforazione laser) | Riduce l'area del PCB di >30%, riducendo le dimensioni del prodotto finale |
Alta frequenza e alta velocità | Materiali a bassa densità (ad esempio, PTFE), controllo dell'impedenza (±5%) | Supporta l'integrità del segnale 5G/6G mmWave e SerDes ad alta velocità |
Alta conduttività | Interconnessione a qualsiasi strato (ELIC), tecnologia di placcatura a riempimento di via | Riduce il ritardo del segnale interstrato, migliorando la velocità dei dati |
Elevata affidabilità dell'isolamento | Substrati privi di alogeni, laminazione di precisione (tasso di espansione ≤3%) | Soddisfa la certificazione automobilistica AEC-Q200, prolunga la durata di vita di 50% |
Basso costo | Meno strati (ad esempio, sostituzione di PCB a 8 strati con fori passanti con HDI a 4 strati), perforazione laser automatizzata (resa >98%) | Riduce il costo totale di 15%-20% |
III. Prospettive di mercato e dati di supporto
- Tendenza di crescita: Tra il 2000 e il 2008, la produzione globale di pannelli HDI è cresciuta a un CAGR di >14% (dati Prismark). Nel 2023, le dimensioni del mercato hanno superato i $12 miliardi, con un CAGR previsto per il 2030 di 8,3%.
- Evoluzione tecnologica: L'Ultra HDI (traccia/spazio ≤40µm) e la tecnologia dei componenti integrati favoriranno ulteriormente lo sviluppo di dispositivi AIoT e indossabili.
Con le sue caratteristiche di "quattro alti e un basso", la tecnologia HDI funge da motore centrale per il progresso dell'industria elettronica, con un immenso potenziale nelle comunicazioni 6G, nei veicoli autonomi e nell'informatica quantistica.
Classificazione delle schede HDI
I pannelli HDI sono classificati in tre tipi principali in base al metodo di impilamento e al numero di laminazioni di blind vias:
(1) Tipo 1+N+1
- Struttura: Presenta un singolo strato di laminazione per interconnessioni ad alta densità.
- Caratteristiche:
- La soluzione HDI più conveniente
- Adatto a progetti di moderata complessità
- Applicazioni tipiche: Smartphone entry-level, elettronica di consumo
(2) i+N+i (i≥2) Tipo
- Struttura: Incorpora due o più strati di laminazione per interconnessioni ad alta densità.
- Caratteristiche chiave:
- Supporta configurazioni di microvia sfalsate o impilate
- I progetti avanzati utilizzano spesso microvasi impilati riempiti di rame.
- Fornisce una maggiore densità di routing e integrità del segnale
- domande:
- Dispositivi mobili di fascia medio-alta
- Apparecchiature di rete
- Elettronica per autoveicoli
(3) Tipo di interconnessione a qualsiasi livello (ELIC)
- Struttura: Tutti gli strati utilizzano interconnessioni ad alta densità con microvie impilate e riempite di rame.
- vantaggi:
- Consente una completa libertà di progettazione per le connessioni tra gli strati
- Soluzione ottimale per componenti ad altissimo numero di pin (ad es. CPU, GPU)
- Massimizza l'utilizzo dello spazio in progetti compatti
- Casi d'uso tipici:
- Smartphone di punta
- Calcolo ad alte prestazioni
- Dispositivi indossabili avanzati
Confronto tecnico
tipo | Conteggio della laminazione | Via Struttura | Fattore di costo | Applicazioni tipiche |
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1+N+1 | Laminazione singola | Microvie di base | Il più basso | Elettronica di consumo entry-level |
i+N+i (i≥2) | Laminazioni multiple | Microvite impilate/sfalsate | moderato | Mobile/networking di fascia media |
ELIC | A tutti gli strati | Vias impilati riempiti di rame | Il più alto | Informatica di fascia alta/mobile |
Questo sistema di classificazione aiuta i progettisti a scegliere la tecnologia HDI appropriata in base ai requisiti di prestazione, complessità e costo. L'evoluzione da 1+N+1 a ELIC rappresenta una capacità crescente di supportare applicazioni elettroniche più avanzate.
Requisiti prestazionali dei materiali PCB HDI/BUM
Lo sviluppo dei materiali per i circuiti stampati HDI si è sempre concentrato sulla soddisfazione dei requisiti "quattro alti e uno basso" (alta densità, alta frequenza, alta conduttività, alta affidabilità e basso costo). Le crescenti esigenze di miniaturizzazione e di prestazioni dei circuiti stampati vengono soddisfatte migliorando proprietà quali la resistenza all'elettromigrazione e la stabilità dimensionale.
1. Materiali preimpregnati (PP)
- Composizione: Resina + materiali rinforzati (tipicamente fibra di vetro)
- vantaggi:
- Basso costo
- Buona rigidità meccanica
- Ampia applicabilità
- Limitazioni:
- Affidabilità moderata (resistenza al CAF più debole)
- Resistenza alla spellatura del pad inferiore (non adatta ad applicazioni impegnative per drop-test)
- Applicazioni tipiche: Elettronica di consumo di fascia medio-bassa (ad esempio, smartphone economici)
2. Materiali in rame rivestito di resina (RCC)
- Film PI metallizzato
- Pellicola PI + foglio di rame laminato con adesivo ("Pure PI")
- Film PI fuso (PI liquido polimerizzato su lamina di rame)
- vantaggi:
- Eccellente producibilità
- Alta affidabilità
- Resistenza superiore alla spellatura del pad (ideale per le applicazioni con test di caduta)
- Tecnologia di perforazione laser microvia abilitata
- Limitazioni:
- Costo più elevato
- Rigidità complessiva inferiore (potenziali problemi di deformazione)
- Impatto: Pioniere del passaggio dal confezionamento SMT a quello CSP
3. Materiali preimpregnati perforabili al laser (LDP)
- Posizionamento: Equilibrio costi-prestazioni tra PP e RCC
- vantaggi:
- Migliore resistenza al CAF rispetto al PP
- Migliore uniformità dello strato dielettrico
- Soddisfa/supera gli standard internazionali per la resistenza alla spellatura del tampone
- domande: Dispositivi mobili ed elettronici di fascia medio-alta
4. Materiali in polimeri a cristalli liquidi (LCP)
- Proprietà chiave:
- Costante dielettrica ultrabassa (Dk=2,8 @1GHz)
- Tangente di perdita minima (0,0025)
- Ritardo di fiamma intrinseco (senza alogeni)
- Stabilità dimensionale superiore
- vantaggi:
- Ideale per progetti ad alta frequenza/alta velocità
- Rispettoso dell'ambiente
- Sfidare il dominio tradizionale dei PI
- domande: Circuiti RF/microonde di fascia alta, packaging avanzato
Guida alla selezione materiali
materiale | costo | affidabilità | Alta frequenza | Rigidità | Il migliore per |
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PP | basso | moderato | No | elevata | Dispositivi consumer economici |
RCC | elevata | Eccellente | moderato | basso | Test di caduta delle applicazioni sensibili |
LDP | Medio | buona | Limitato | elevata | Dispositivi mobili premium |
LCP | Molto alto | Eccezionale | Sì | Medio | 5G/RF/imballaggio avanzato |
Differenza nel processo di produzione dei PCB tra le schede con e senza nucleo
I. Processo di produzione HDI basato sul nucleo
1. Caratteristiche della scheda principale
- Progettazione strutturale:
- Utilizza fori passanti o strutture ibride interrate/cieche/passanti (in genere 4-6 strati)
- Struttura opzionale con nucleo in metallo (maggiore dissipazione termica)
Parametri tecnici:
parametro | Consiglio centrale | Strati di accumulo |
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Diametro del foro passante | ≥0,2 mm | ≤0,15 mm (microvias) |
Larghezza della traccia/spazio | ≥0,08 mm | ≤0,08 mm |
Densità di interconnessione | basso | Densità ultraelevata |
2. Funzioni fondamentali del Consiglio di amministrazione
- Supporto meccanico (garantisce la rigidità)
- Ponte di interconnessione elettrica tra gli strati di accumulo
- Gestione termica (soprattutto per le schede con anima in metallo)
3. Processi chiave di pretrattamento
- Trattamento via: Riempimento della via + planarizzazione della superficie
- Trattamento della superficie: Rame chimico + elettrodeposizione (spessore 1-3µm)
- Trasferimento del modello: LDI laser direct imaging (precisione ±5µm)
II. La rivoluzionaria tecnologia HDI senza nucleo
1. Tecnologie rappresentative
- ALIVH (Foro di passaggio interstiziale di qualsiasi strato)
- B²IT (Tecnologia di interconnessione a cunetta interrata)
2. Vantaggi rivoluzionari
confronto | HDI basato su core | HDI senza nucleo |
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Struttura | Nucleo + zone di accumulo | Progettazione di strati omogenei |
Densità di interconnessione | Variazione significativa dello strato | Densità ultraelevata uniforme (+40% rispetto al nucleo) |
Trasmissione del segnale | Percorsi più lunghi (ritardo indotto dal core) | Percorsi più brevi possibili |
Controllo dello spessore | Limitato dal nucleo (≥0,4 mm) | Può raggiungere <0,2 mm |
3. Innovazioni di processo fondamentali
- Interconnessione dei livelli:
- Sostituisce il rame elettrolitico con pasta conduttiva o bumps di rame
- Ablazione laser per microvasi a qualsiasi strato (diametro ≤50µm)
- Garanzia di affidabilità:
- Irruvidimento della superficie su scala nanometrica (Ra≤0,5µm)
- Materiali dielettrici a bassa polimerizzazione (Tg≥200℃)
Osservazioni conclusive
Grazie ai progressi nella perforazione laser, nella scienza dei materiali e nell'impilamento multistrato, i PCB HDI rappresentano l'avanguardia della miniaturizzazione e dell'elettronica ad alte prestazioni. La tecnologia HDI continuerà a evolversi man mano che i dispositivi richiederanno velocità più elevate, latenza più bassa e maggiore affidabilità, spingendo i limiti della produzione di PCB.